EUV设备运入英特尔爱尔兰厂 成欧洲史上首例
来源:蔡静珊 发布时间:2022-04-12 分享至微信


位於爱尔兰的Fab 34,将成欧洲目前采用最先进制程技术的晶圆厂。英特尔

位於爱尔兰的Fab 34,将成欧洲目前采用最先进制程技术的晶圆厂。英特尔

在经过18个月的设计与建造准备後,英特尔(Intel)位於爱尔兰莱克斯利普(Leixlip)的Fab 34晶圆厂,已经开始首台ASML制造的极紫外光(EUV)微影系统的安装流程,未来将以Intel 4(等於7纳米)制程技术,成为欧洲土地上首座利用新一代微影技术量产芯片的先进晶圆厂。


综合eeNews Europe与Bits & Chips报导,这套EUV系统是从英特尔位在美国奥勒冈州的技术开发工厂送出,包含10万个组件、3,000条线缆、4万个螺栓与超过1英里的软管管线,占了从地下室起算共4层楼的空间,还包含附属厂房的部分。英特尔表示,未来几年Fab 34还会继续安装更多的EUV设备。而Intel 4也是英特尔首个导入EUV曝光程序的新制程。


除了Fab 34以外,欧洲唯一一台ASML EUV设备设在比利时微电子研究中心(IMEC),但并非商用,而是投入芯片与制程技术等领域的研发。至於英特尔将在德国马格德堡(Magdeburg)新建的巨型晶圆厂,预计於2027年投产,届时应该会导入更先进的高数值孔径(high-NA)系统。



责任编辑:朱原弘



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