拓荆科技本次拟在上交所科创板公开发行新股不超过3161.98万股，且不低于发行后公司总股本的25%，拟募集资金10亿元，其中7986.46万元拟用于“高端半导体设备扩产项目”，3.99亿元拟用于“先进半导体设备的技术研发与改进项目”、2.71亿元拟用于“ALD设备研发与产业化项目”、2.50亿元拟用于“补充流动资金”。

拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试。

不过，科创板上市委提出三大问询。其一是，请拓荆科技代表结合报告期内销售价格折让、负毛利率、长库龄发出商品、验收周期加长等情况，说明对发出商品计提存货跌价准备的充分性。

其二是，请拓荆科技代表说明：共青城盛夏引入不适格投资者，不再满足私募基金备案条件以及进入清算程序，是否对其合法持有公司的股权及发行人的运作、公司治理构成重大影响；同时，共青城盛夏和润扬嘉禾之间的纠纷是否对公司运作和公司治理构成重大影响，公司是否已就该纠纷披露了完整的信息。

其三是，员工持股平台借款的还款方式表明相关持股安排实质上构成一项股票期权。请拓荆科技代表结合股票期权的期限、预计波动率等因素，按期权定价模型量化分析该期权的公允价值，并匡算报告期内股份支付费用的金额；另外，按照市场利率匡算报告期内员工持股平台应承担的利息费用，并补充说明发行人未确认相应的职工薪酬费用是否符合企业会计准则的规定。

资料显示，拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。拓荆科技产品已广泛用于、集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂产线，累计发货超150套机台。公司凭借长期技术研发和工艺积累，打破国际厂商对国内市场的垄断，与国际寡头直接竞争。报告期内，公司在研产品已发往某国际领先晶圆厂参与其先进制程工艺研发。

2018年至2021年第一季度，拓荆科技实现营业收入分别为7,064.40 万元、 25,125.15 万元、43,562.77 万元和 5,774.10 万元；同期净利润分别为-10,322.29万元、-1,936.64万元、-1,169.99万元及-1,058.92万元，扣除非经常性损益后归属于母公司所有者的净利润分别为-14,993.05万元、-6,246.63万元、-5,711.62万元和-2,400.90万元。

拓荆科技表示，报告期内尚未实现盈利，主要由于半导体设备行业技术含量高，研发投入大，产品验证周期长，公司持续进行了大量的研发投入。

报告期内，拓荆科技研发费用分别为10,797.31万元、7,431.87万元、12,278.18万元和2,714.86万元，占各期营业收入的比例为152.84%、29.58%、28.19%和47.02%。其指出，2018年度研发投入占营业收入比例超过100%系营业收入较小所致。

其净利润出现亏损，除了研发投入外，其ALD、SACVD设备贡献营收较少有很大的关联，报告期内，拓荆科技PECVD销售收入占发行人主营业务收入比例较高，分别为77.98%、100.00%、97.55%和100.00%。目前，公司ALD、SACVD均处于产品发往不同客户端进行产线验证的市场开拓阶段，形成批量销售需经过不同客户的验证，周期存在不确定性。