尔必达与联电力成合作开发TSV产品
来源:电子产品世界 发布时间:2011-06-01 分享至微信
看好3D市场,DRAM大厂尔必达日前宣布,将与台湾力成科技、联华电子正式签约,携手展开TSV产品的共同开发;尔必达表示,三方还将针对3D IC整合技术、28纳米先进制程TSV(Through-Silicon Via, 直通硅晶穿孔)进行开发与商务合作。
本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/119995.htm
[ 新闻来源:电子产品世界,更多精彩资讯请下载icspec App。如对本稿件有异议,请联系微信客服specltkj]
存入云盘 收藏
举报
全部评论
暂无评论哦,快来评论一下吧!
电子产品世界
开创IC领域,共创美好未来!
查看更多
相关文章
VisIC与AVL合作开发氮化镓逆变器
2024-12-11
Smartkem携手友达光电,合作开发microLED显示器
2024-12-03
字节跳动否认与努比亚合作开发AI手机计划
5 天前
优必达与华硕合作,LLM应用亮相美国SC24
2024-11-20
Sony与NEC合作开发逆光人脸识别技术,计划2025年上市
2024-12-02
热门搜索