南韩S&S Tech投资布局EUV光罩核心材料

南韩半导体材料业者S&S Tech正加速布局极紫外光(EUV)核心材料，预定投资100亿韩元(约800万美元)，开发与量产空白光罩及护膜(pellicle)。S&S Tech计划2021年6月底完成投资，最快2021年下半可望量产。
ET News报导，EUV用护膜至今尚未商用化，传台积电、日厂三井化学(Mitsui Chemicals)、加拿大Teledyne等业者已着手开发EUV护膜。因EUV护膜用来保护光罩，须具备EUV光穿透率达90%以上，才能用于产线，而S&S Tech所开发护膜，已具88% EUV光穿透率。
S&S Tech现主要生产氟化氩(ArF)曝光制程用空白光罩，供应给半导体厂商，并积极跨足次世代制程EUV用空白光罩及护膜领域。全球EUV用光罩市场，由Hoya、旭硝子(Asahi Glass)等日厂居领先地位，美商应用材料(Applied Materials)也正开发中。
由于EUV光具备易被所有物质吸收的特性，因此光罩须使用能反射EUV光的物质。而用来保护EUV光罩的护膜，则须能使EUV光穿透，同时传输EUV光至光罩，故技术难度高。EUV用护膜可提高昂贵光罩的利用度，降低污染程度，进而提升生产效率，虽技术难度高，然多家企业仍积极开发。
依S&S Tech资本额885亿韩元与年营收844亿韩元观察，相当于将投入11%的金额，开发与量产空白光罩及护膜。如获需求企业协助，可望加速S&S Tech迈入量产阶段。