KAIST与三星电子携手推进BCDMOS技术，赋能半导体教育与产业创新

韩国科学技术院（KAIST）与三星电子宣布，双方将于本周二正式签署合作协议，共同推进130纳米双极CMOS DMOS（BCDMOS）技术的研发与应用。此次合作标志着双方在半导体领域合作的进一步深化，特别是在BCDMOS这一前沿技术上。

自2021年起，三星电子便与KAIST的IC设计教育中心（IDEC）建立了紧密的合作关系，为学生提供宝贵的28纳米逻辑工艺芯片制造实践机会，有效促进了半导体设计人才的培养。而今，双方再次携手，将合作重心转移至BCDMOS技术，旨在通过这一集成模拟、逻辑与高压器件的先进技术，为电源管理等高压高速应用提供更强有力的支持。

据悉，KAIST与三星电子计划在2024年下半年，采用BCDMOS 8英寸工艺，为来自全国13所顶尖大学的半导体设计与工程专业硕士生及博士生提供实践平台，使他们能够亲身参与芯片制造流程，积累宝贵的行业经验。此举不仅将加速BCDMOS技术的产业化进程，更将为韩国乃至全球的半导体产业输送更多高素质的专业人才。