为更好服务三星等客户，默克将在韩国生产CMP浆料及EUV冲洗液

据韩媒报导，德国默克公司将在韩国生产化学机械抛光 (CMP) 浆料。CMP 浆料是一种用于抛光和平整半导体晶片表面的材料。它被放置在晶圆和 CMP 垫之间并旋转。

默克正在与韩国客户进行 CMP 浆料的质量测试，预计将于2022年上半年开始交付。

此前，默克在京畿道平泽市建设了CMP浆料生产线，并在2020 年开业的韩国先进技术中心 (K-ATeC) 建立了研发和制造设施。

CMP 材料具有每个企业客户所需的不同特性。为了满足这一点，主要趋势是在当地开发和生产。此外，还具有能够快速响应由流程转换引起的修改的优点。

日本昭和电工也决定在韩国建设CMP浆料厂。随着外国公司加入与东进半导体和KCTech等国内公司的竞争，竞争有望升温。

默克还准备在韩国生产一种极紫外 (EUV) 冲洗液。该产品在 EUV 曝光过程后起到去除残留物的作用，需要一种不同于当前光源的专用材料，例如氟化氩 (ArF)。

默克也在与企业客户一起检查 EUV 冲洗液的质量。默克目前已在海外生产EUV冲洗液，但不久将在韩国生产。

默克于2019年收购的 Versum Materials 也在扩大其在韩国半导体市场的影响力。该公司正在向三星电子等供应双图案技术 (DPT) 材料。DPT 可防止在绘制微处理电路的双重图案化方法中损坏半导体。三星电子大约一半的 DPT 材料依赖 Versum Materials。